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退火温度对mos₂纳米薄膜特性影响研究
the influence of annealing temperature on the properties of mos₂ nanometer thin film

林 拉, 陈康烨, 何 杰, 张国瑞, 顾伟霞, 马锡英   

纳米技术 vol.3 no.3, november 4 2013, , , doi:  被引量